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復納科學儀器(上海)有限公司
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臺式原位掃描電子顯微鏡

更新時間:2026-10-14
產品型號:Phenom XL
所屬分類:臺式掃描電鏡
描述:傳統 SEM 常以處理前后的靜態圖像進行比較。Phenom XL 臺式原位掃描電子顯微鏡把液相、電位、溫度和電學偏壓引入成像過程,使研究人員能夠在外部刺激作用下直接觀察材料的成核、生長、重構、退化或失效。借助 MEMS 芯片技術,原位條件可在 SEM 腔體內建立,系統由靜態成像工具擴展為動態實驗平臺。
詳情介紹

Phenom XL 臺式原位掃描電子顯微鏡

液相電化學  原位加熱  電學偏壓

面向材料動態過程研究的臺式原位 SEM 方案,通過 FireBolt 和 HydroBolt 模塊,把溫度、電壓、液相電化學條件與同一區域 SEM 圖像建立時間對應關系。

臺式原位掃描電子顯微鏡 

Phenom XL 主機與 FireBolt、HydroBolt 原位模塊(原資料圖片)

原位能力

研究對象

關鍵價值

液相電化學

電沉積、枝晶、腐蝕與界面變化

同步關聯電化學信號與表面形貌

加熱與偏壓

納米顆粒、納米線、薄膜、二維片層等

追蹤溫度和電場作用下的結構演變

跨平臺關聯

通用 Nano-Chip 樣品

連接原位 SEM 與原位 TEM 分析流程

產品介紹

傳統 SEM 常以處理前后的靜態圖像進行比較。Phenom XL 臺式原位掃描電子顯微鏡把液相、電位、溫度和電學偏壓引入成像過程,使研究人員能夠在外部刺激作用下直接觀察材料的成核、生長、重構、退化或失效。借助 MEMS 芯片技術,原位條件可在 SEM 腔體內建立,系統由靜態成像工具擴展為動態實驗平臺。

從原位 SEM 到跨尺度機制分析

Phenom XL 可先利用臺式 SEM 的易用性開展現象探索,再將搭載加熱或偏壓功能的同款 Nano-Chip 轉移至 TEM 平臺。這一個流程把微米尺度的 SEM 面掃觀察,與更高分辨率的 TEM 成像及成分化學分析建立關聯,同時保持樣品和控制參數的一致性。

臺式原位掃描電子顯微鏡 

臺式原位掃描電子顯微鏡 

MEMS 芯片技術實現原位 SEM

通用 Nano-Chip 連接原位 SEM 與原位 TEM

即插即用集成

原位模塊與 DENSsolutions Lightning、Lightning Arctic 透射電鏡樣品桿共用一致的軟件、接口與控制電子模塊。對于需要逐級深入驗證的材料研究,可在一個連貫流程中完成原位 SEM 現象篩選和原位 TEM 精細表征。


 

FireBolt 原位加熱與偏壓

FireBolt 是基于 MEMS 技術的 SEM 原位加熱與偏壓平臺,最多配備 8 個電接觸點。研究人員可在升溫、通電或兩者共同作用時連續采集 SEM 圖像,將結構變化與溫度、電壓和時間直接關聯。

臺式原位掃描電子顯微鏡 

臺式原位掃描電子顯微鏡 

FireBolt 安裝于 Phenom XL 專用適配平臺

FireBolt 原位加熱與偏壓模塊

FireBolt 準確參數

項目

FireBolt XL 聯用配置

原位激勵

加熱和或偏壓加載

溫度范圍

加熱芯片:室溫至 1300 °C;加熱偏壓芯片:室溫至 900 °C

電壓范圍

-10 V 至 +10 V

電接觸點

最多 8 個

樣品類型

納米顆粒、納米線、薄膜、二維片層、FIB 薄片及混合塊體 FIB 薄片

關聯分析

支持加熱與偏壓 Nano-Chip 在 SEM 與 TEM 平臺間轉移

 

說明:主機分辨率、探測器、真空系統等 Phenom XL 配置應以正式產品配置單或技術協議為準;本頁僅列原資料明確給出的原位聯用參數。


 

FireBolt 場景應用

應用方向

可觀察過程

適用問題

原位高溫

納米顆粒在升溫過程中的邊緣、表面紋理與成分襯度變化

識別退化起始溫區與結構演變順序

納米材料燒結

顆粒融合、孔隙收縮和結構粗化

分析燒結動力學與形貌穩定性

材料退化

同一區域在多個溫度節點的連續變化

區分形貌變化與成分襯度變化

電遷移與器件失效

電流與溫度共同作用下的結構重構

定位失效起點并關聯電學加載條件

 

實驗案例 900 °C 下納米顆粒退化

臺式原位掃描電子顯微鏡 

Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 納米顆粒在室溫、600 °C 和 900 °C 下的 SE 與 BSE 圖像

案例要素

資料記錄

研究樣品

Sr2FeMo0.65Ni0.35O6-δ 納米顆粒

實驗過程

在室溫、600 °C 與 900 °C 連續采集 SE 和 BSE 圖像

觀察結果

升溫過程中顆粒邊緣、表面紋理及成分襯度持續變化;900 °C 時出現明顯結構退化

研究價值

同一區域多溫度節點對照,可判斷退化起始溫區,并區分形貌變化與成分襯度變化

 


 

HydroBolt 液相電化學原位

HydroBolt 是基于 MEMS 的體相電化學樣品臺,可在 Phenom XL 腔體內開展液相偏壓實驗。毫升級反應腔體內配置真實對電極和參比電極,并結合芯片工作電極,使電化學曲線能夠與電極表面的形貌變化對應。

臺式原位掃描電子顯微鏡 

臺式原位掃描電子顯微鏡 

HydroBolt 與 Phenom XL 聯用實拍

HydroBolt 體相電化學樣品臺

HydroBolt 準確參數

項目

HydroBolt XL 聯用配置

原位激勵

液相;液相與偏壓

電極體系

三電極體系:工作電極 WE、對電極 CE、參比電極 RE

工作電極

芯片上玻碳電極

外接電極

Pt 對電極;Ag AgCl 參比電極

液相模式

靜態

溶液體系

水溶液或有機溶劑

裝配方式

支持在手套箱內完成敏感樣品裝配

 


 

HydroBolt 場景應用

應用方向

可觀察內容

研究價值

電沉積

不同電位和時間下的沉積形貌

將電位、時間與成核和沉積位置直接關聯

枝晶生長

枝晶成核位置、生長方向和關鍵時間節點

為沉積機理與安全性研究提供圖像證據

電極退化與腐蝕

溶解、腐蝕和表面重構

把電流電位變化與界面形貌變化聯系起來

電催化與燃料電池

液相條件下催化材料和膜電極組件的動態變化

觀察更接近真實反應條件下的界面過程

 

實驗案例一 鋅電沉積的實時觀察

臺式原位掃描電子顯微鏡 

Pt 工作電極表面 Zn 電沉積過程:t = 0.000 s 與 t = 53.673 s 的 SEM 圖像及同步電化學響應

案例要素

資料記錄

實驗過程

在不同電位條件下記錄 t = 0.000 s 與 t = 53.673 s 的 SEM 圖像,并同步獲取電化學響應

觀察結果

工作電極表面從初始平整狀態逐步形成可辨識的沉積結構,沉積位置與生長時間可直接追蹤

研究價值

把電位和時間與成核位置、沉積形貌及枝晶生長聯系起來,為沉積機理與安全性研究提供證據

 


 

實驗案例二 真實三電極體系與快速裝配

HydroBolt 通過芯片工作電極與外接對電極、參比電極組成三電極測量體系。密封結構可快速組裝,并支持在手套箱內完成空氣敏感樣品裝配。

臺式原位掃描電子顯微鏡 

臺式原位掃描電子顯微鏡 

外接 Pt 對電極和 Ag AgCl 參比電極的裝配實拍

片上電極方案與真實三電極方案的電化學曲線對比(原資料圖)

項目

資料描述

電極體系

芯片工作電極配合外接 Pt 對電極和 Ag AgCl 參比電極,支持真實三電極測量

裝配方式

密封結構可快速組裝,并支持在手套箱中完成空氣敏感樣品裝配

研究價值

相較僅使用片上電極的方案,可降低電位漂移風險,并便于開展更接近真實工況的電化學實驗

 

推薦實驗流程

·       明確外部刺激:根據問題選擇加熱、偏壓、液相或液相加偏壓。

·       確定時間與條件節點:預設溫度、電位和成像時間點,保證同一區域可重復復訪。

·       同步記錄:連續采集 SEM 圖像,并記錄溫度、電壓或電化學響應。

·       建立關聯:比較同一區域在各條件節點的形貌、襯度和界面變化。

·       需要時跨平臺深入分析:使用通用 Nano-Chip 將樣品轉移至 TEM 平臺開展進一步表征。


 

常見問題

Q1  Phenom XL 原位掃描電鏡適合研究哪些動態過程?

答:適合觀察材料在加熱、偏壓或液相電化學條件下發生的成核、生長、燒結、重構、退化、腐蝕、枝晶生長和器件失效等過程。

Q2  FireBolt 可以同時進行加熱和偏壓嗎?

答:可以。資料明確說明 FireBolt 支持加熱和或偏壓加載。加熱芯片溫度范圍為室溫至 1300 °C;加熱偏壓芯片為室溫至 900 °C。

Q3  FireBolt 的電壓和電接觸能力是多少?

答:電壓范圍為 -10 V 至 +10 V,最多提供 8 個電接觸點。

Q4  HydroBolt 使用什么電極體系?

答:HydroBolt 使用三電極體系,包括芯片上玻碳工作電極、外接 Pt 對電極和 Ag AgCl 參比電極。

Q5  HydroBolt 能使用哪些液體?

答:資料列出的溶液體系為水溶液或有機溶劑,液相模式為靜態。具體溶液與材料兼容性應在實驗前按正式技術要求確認。

Q6  空氣敏感樣品能否裝配?

答:HydroBolt 支持在手套箱內完成敏感樣品裝配。

Q7  能否把原位 SEM 結果與 TEM 結果關聯?

答:可以。通用 Nano-Chip 支持加熱與偏壓樣品在 SEM 與 TEM 平臺之間轉移,用于跨尺度關聯分析。

Q8  這份產品頁為什么沒有列出 Phenom XL 主機分辨率等參數?

答:原資料未提供主機分辨率、探測器和真空系統等具體配置。相關主機參數應以正式配置單或技術協議為準,以避免不同配置之間的信息混用。

發布與選型說明

本產品詳情中的 FireBolt、HydroBolt 參數和案例均來自所提供資料。涉及 Phenom XL 主機具體配置、可選探測器、軟件版本、樣品尺寸限制及現場安裝條件時,應以供應商正式配置單、技術協議和最新產品文件為準。

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